05.04.2023
Technology and equipment for ion-plasma sputtering of coatings on small-sized products
Purpose
The Micra ion-plasma coating installation is designed for applying wear-resistant, corrosion-resistant, protective and decorative coatings (metal, nitrides, oxides, carbides, etc.) to various metal products and a number of dielectrics using the CIB method.
Brief description
The installation is used for scientific and technological research in the field of plasma physics and coatings that modify the surface properties of materials, as well as industrial processing of batches of small-sized products and tools.
Технико-экономические показатели
|
Предельный вакуум |
1.33x10-3 Па |
|
Время достижения предельного вакуума (не более) |
30 мин. |
|
Управление работой установки от загрузки до выгрузки стекла |
программное автоматическое. |
|
Скорость осаждения нитрида титана |
3 - 6 мкм/ч. |
|
Ток испарителя (плавно регулируемый) |
40 - 60 А. |
|
Ток источника низкотемпературной газовой плазмы |
2 - 10 А. |
|
Напряжение высоковольтного источника |
50 - 1000 В. |
|
Потребляемая мощность, не более |
5.5 кВт. |
|
Окупаемость установки |
2.5 года. |
|
Установочная площадь |
9 м2. |
Области применения
Установка применяется для разработки покрытий, получаемых методом ионно-плазменного напыления, а также для обработки мелкоразмерных изделий.
Основные преимущества
При создании установки были учтены недостатки прототипов и сохранены их достоинства. Установку отличают современные технические решения, высокая надежность и простота эксплуатации в сравнении с аналогами. Важными преимуществами являются малые габариты и современный дизайн.
К преимуществам установки относятся также низкое энерго- и ресурсопотребление, экономия расходных материалов и относительно малое время технологического цикла нанесения покрытия. Кроме того, имеющийся в установке источник низкотемпературой газовой плазмы (газовый источник), позволяет выполнять дополнительную внутрикамерную очистку изделий, что существенно улучшает качество покрытия.