Том 17 (2014)


Моделирование процесса наноструктурирующего выглаживания на различных масштабных уровнях

А.И. Дмитриев1,2, В.П. Кузнецов3, А.Ю. Никонов1,2, И.Ю. Смолин1,2, С.Г. Псахье1,2,4

1Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, 634055, Россия
2Национальный исследовательский Томский государственный университет, Томск, 634050, Россия
3Курганский государственный университет, Курган, 640669, Россия
4Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, 634050, Россия

УДК 539.386 + 621.7 + 621.923

Эксплуатационные характеристики различных деталей и узлов машин во многом определяются физико-механическими свойствами поверхностного слоя. Однако до сих пор нет полного понимания того, какие параметры и механизмы отвечают за определенную модификацию свойств поверхностного слоя. В этой связи методы компьютерного моделирования могут являться полезным инструментом для исследования изменения свойств поверхности во время контактного взаимодействия, а также в условиях приработки. Принципиальную значимость имеет возможность рассмотрения процессов, происходящих на нанометровом масштабе и на масштабе отдельных атомов. В работе в рамках компьютерного моделирования воспроизведены условия нагружения, реализуемые при поверхностном пластическом деформировании. Исследования проведены на макромасштабе (традиционный подход), а также на атомном и мезоскопическом уровнях. Для получения информации о моделируемой системе использованы три метода компьютерного моделирования: метод конечных элементов, метод подвижных клеточных автоматов и метод молекулярной динамики. Результаты моделирования находятся в хорошем качественном согласии с данными экспериментальных измерений.

 


стр. 6 – 13

Образец цитирования:
А.И. Дмитриев, В.П. Кузнецов, А.Ю. Никонов, И.Ю. Смолин, С.Г. Псахье  Моделирование процесса наноструктурирующего выглаживания на различных масштабных уровнях // Физ. мезомех. - 2014. - Т. 17. - № 3. - С. 6-13


вернуться