Том 3 (2000)


Деградация тонкопленочных Au проводников при пропускании электрического тока высокой плотности

А.В. Панин1, А.Р. Шугуров1

1Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, 634021, Россия

Методами оптической и сканирующей туннельной микроскопии изучена эволюция рельефа поверхности тонкопленочных Au проводников при пропускании электрического тока высокой плотности. Исследовано влияние промежуточного диэлектрического слоя между проводником и подложкой на процессы деградации Au пленок. Установлено, что в образцах с промежуточным диэлектриком потеря проводимости вызвана отслаиванием проводящей пленки, а в образцах без подслоя — истощением материала. Для количественной оценки изменения рельефа поверхности Au проводников применен фрактальный анализ. Показано, что величину фрактальной размерности можно использовать в качестве критерия предразрушения и предсказания отказов тонких металлических соединений в интегральных схемах.

стр. 101 – 108

Образец цитирования:
А.В. Панин, А.Р. Шугуров  Деградация тонкопленочных Au проводников при пропускании электрического тока высокой плотности // Физ. мезомех. - 2000. - Т. 3. - № 5. - С. 101-108


вернуться