Том 4 (2001)


Эволюция рельефа поверхности тонких диэлектрических пленок при термическом отжиге. Фрактальный анализ

А.В. Панин1, А.Р. Шугуров1, М.Б. Иванов1, И.В. Ивонин2

1Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, 634021, Россия
2Сибирский физико-технический институт, Томск, 634050, Россия

Методами атомно-силовой микроскопии исследована эволюция рельефа поверхностей тонких диэлектрических пленок при термообработке. Обнаружено, что независимо от температуры синтеза пленок отжиг при температурах до 400 оС не приводит к существенному изменению морфологии их поверхностей. При повышении температуры отжига до 600 оС на поверхностях тонких пленок возникают локальные образования в виде холмиков и ямок. Для количественной оценки изменения рельефа тонких пленок при термообработке применен фрактальный анализ. На основе данных атомно-силовой микроскопии, электронографии на отражение и вторичной ионной масс-спектроскопии рассмотрены процессы, протекающие в объеме диэлектрических пленок при отжиге.

стр. 65 – 75

Образец цитирования:
А.В. Панин, А.Р. Шугуров, М.Б. Иванов, И.В. Ивонин  Эволюция рельефа поверхности тонких диэлектрических пленок при термическом отжиге. Фрактальный анализ // Физ. мезомех. - 2001. - Т. 4. - № 2. - С. 65-75


вернуться