Технология и оборудование для ионн...

Технология и оборудование для ионно-плазменного напыления покрытий на мелкоразмерные изделия

Назначение
Установка ионно-плазменного нанесения покрытия «Микра» предназначена для нанесения методом КИБ износостойких, коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий (металл, нитриды, оксиды, карбиды и т.д.) на различные изделия из металла и ряда диэлектриков.

Краткая характеристика
Установка применяется для научных и технологических исследований в области физики плазмы и нанесения покрытий, модифицирующих свойства поверхности материалов, а также промышленной обработки партий мелкоразмерных изделий и инструментов.

Технико-экономические показатели

Предельный вакуум

1.33x10-3 Па

Время достижения предельного вакуума (не более)

30 мин.

Управление работой установки от загрузки до выгрузки стекла

программное автоматическое.

Скорость осаждения нитрида титана

3 - 6 мкм/ч.

Ток испарителя (плавно регулируемый)

40 - 60 А.

Ток источника низкотемпературной газовой плазмы

2 - 10 А.

Напряжение высоковольтного источника

50 - 1000 В.

Потребляемая мощность, не более

5.5 кВт.

Окупаемость установки

2.5 года.

Установочная площадь

9 м2.


Области применения
Установка применяется для разработки покрытий, получаемых методом ионно-плазменного напыления, а также для обработки мелкоразмерных изделий.

Основные преимущества
При создании установки были учтены недостатки прототипов и сохранены их достоинства. Установку отличают современные технические решения, высокая надежность и простота эксплуатации в сравнении с аналогами. Важными преимуществами являются малые габариты и современный дизайн.

К преимуществам установки относятся также низкое энерго- и ресурсопотребление, экономия расходных материалов и относительно малое время технологического цикла нанесения покрытия. Кроме того, имеющийся в установке источник низкотемпературой газовой плазмы (газовый источник), позволяет выполнять дополнительную внутрикамерную очистку изделий, что существенно улучшает качество покрытия.

Назад