Технология и оборудование для ионно-плазменного напыления покрытий на мелкоразмерные изделия
Назначение
Установка ионно-плазменного нанесения покрытия «Микра» предназначена для нанесения методом КИБ износостойких, коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий (металл, нитриды, оксиды, карбиды и т.д.) на различные изделия из металла и ряда диэлектриков.
Краткая характеристика
Установка применяется для научных и технологических исследований в области физики плазмы и нанесения покрытий, модифицирующих свойства поверхности материалов, а также промышленной обработки партий мелкоразмерных изделий и инструментов.
Технико-экономические показатели
Предельный вакуум |
1.33x10-3 Па |
Время достижения предельного вакуума (не более) |
30 мин. |
Управление работой установки от загрузки до выгрузки стекла |
программное автоматическое. |
Скорость осаждения нитрида титана |
3 - 6 мкм/ч. |
Ток испарителя (плавно регулируемый) |
40 - 60 А. |
Ток источника низкотемпературной газовой плазмы |
2 - 10 А. |
Напряжение высоковольтного источника |
50 - 1000 В. |
Потребляемая мощность, не более |
5.5 кВт. |
Окупаемость установки |
2.5 года. |
Установочная площадь |
9 м2. |
Области применения
Установка применяется для разработки покрытий, получаемых методом ионно-плазменного напыления, а также для обработки мелкоразмерных изделий.
Основные преимущества
При создании установки были учтены недостатки прототипов и сохранены их достоинства. Установку отличают современные технические решения, высокая надежность и простота эксплуатации в сравнении с аналогами. Важными преимуществами являются малые габариты и современный дизайн.
К преимуществам установки относятся также низкое энерго- и ресурсопотребление, экономия расходных материалов и относительно малое время технологического цикла нанесения покрытия. Кроме того, имеющийся в установке источник низкотемпературой газовой плазмы (газовый источник), позволяет выполнять дополнительную внутрикамерную очистку изделий, что существенно улучшает качество покрытия.